普雨科技申请步进式重复纳米压印设备等相关专利, 能同时提高滴胶分布均匀性和纳米压印设备与传统投影式光刻工艺的兼容性
金融界2025年6月21日消息,国家知识产权局信息显示,普雨科技(苏州)有限公司申请一项名为“一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统”的专利,公开号CN120178595A,申请日期为2025年05月。
专利摘要显示,本发明公开一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统,涉及半导体制备技术领域。纳米压印设备的压印衬底包括呈阵列式排布的多个待压印区域,纳米压印设备包括位移模块和沿第一水平方向间隔设置的滴胶模块和压印模块,位移模块的顶部用于放置压印衬底,所述压印模块包括与所述待压印区域相匹配的压印模板,所述压印模板为光刻模板,位移模块设置成受控地沿第一水平方向在滴胶模块和压印模块之间进行往复运动或沿第二水平方向移动,每次往复运动用于实现一个待压印区域的滴胶和压印,位移模块沿第一水平方向的位移速率按照公式(1)计算。
天眼查资料显示,普雨科技(苏州)有限公司,成立于2024年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本563.6364万人民币。通过天眼查大数据分析,普雨科技(苏州)有限公司参与招投标项目4次,专利信息1条,此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自:金融界

